美研新型光刻機可製0.7納米晶片

眾所周知，製造晶片必須具備光刻機，目前全世界只有荷蘭艾司摩爾（ASML）等數間企業掌握生產光刻機的技術。不過，最近美國納米技術公司Zyvex Labs宣布，研發一款號稱精度最高的全新光刻系統Zyvex Litho 1，日後有望生產0.7納米製程晶片。現時ASML所採用的極紫外光光刻（EUV Lithography）技術，足以生產3納米製程的晶片。預計到了2025年，新一代光刻機將投入運作，屆時能生產出兩納米製程晶片。 STM掃描速度慢產量較低至於Zyvex新研發的Zyvex Litho 1則以掃描隧道顯微鏡（STM）為基礎，採用電子束光刻（Electron Beam ...

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